技術參數：

l 自動的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和的導電噴鍍效果。

l 通過高效低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程，避免樣品表面受損。

l 操作容易快捷，可全自動或手動進行噴鍍操作，控制的參數包括自動放氣以及氬氣換氣控制。

l 在自動模式下，可通過兩種方式進行控制鍍膜過程。可通過數字顯示器控制得到可重現的噴鍍效果，

l 數字化的噴鍍電流控制不受樣品室內氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和的鍍膜效果。

l 可使用多種金屬靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶為標配），靶材更換快速方便。

l 樣品室大小：直徑120mm x 120mm 高 (4.75 x 4.75")

l 樣品臺：可以裝載12個SEM樣品座，高度可調范圍為50mm

l 濺射控制：微處理器控制，安全互鎖，可調，電流40mA，程序化數字控制

l 濺射頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環繞暗區護罩

l 模擬計量：真空： Atm - 0.001mbar，電流：0-50mA

l 控制方法: 自動氣體換氣和泄氣功能，自動處理排序，帶有“暫停"控制的數字定時器（5－300s），自動放氣.整個操作亦可全手動控制。

l 真空泵：，抽氣速率: 6.0 m3/小時 ，真空度到 0.1mb所需時間30秒.

l 桌上系統: 真空泵可置于抗震臺上，全金屬集成耦合系統

l 保修期：免費保修一年